化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,宜春真空,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,
主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。
真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别:蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,非标真空系统,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,激光器真空系统,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且****终沉积在基片表面,经历成膜过程,****终形成薄膜。真空镀膜机设备溅射镀膜又分为很多种,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,真空薄膜,如PE(聚乙烯)料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。
底涂:底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。采用喷涂方法,可采用镀膜油;采用浸涂方法,具体应视镀件材料而定。