上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 100
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中国 上海 浦东
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KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴灯丝和自对准栅标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：
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型号 |
KDC 100 |
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供电 |
DC magnetic confinement |
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- 阴灯丝 |
2 |
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- 阳电压 |
0-100V DC |
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电子束 |
OptiBeam™ |
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- 栅 |
, 自对准 |
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-栅直径 |
12 cm |
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中和器 |
灯丝 |
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电源控制 |
KSC 1212 |
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配置 |
- |
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- 阴中和器 |
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 |
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- 安装 |
移动或快速法兰 |
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- 高度 |
9.25' |
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- 直径 |
7.6' |
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- 离子束 |
聚焦 |
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-加工材料 |
金属 |
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-工艺气体 |
惰性 |
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-安装距离 |
8-36” |
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- 自动控制 |
控制4种气体 |
* 可选: 可调角度的支架
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请联络上海伯东邓女士，分机134
以上内容为上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 100，本产品由伯东企业（上海）有限公司直销供应。
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