上海伯东 射频离子源 RFICP 380
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大口径射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅设计, 栅口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.
KRi 射频离子源 RFICP 380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV
6. 栅口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用
射频离子源 RFICP 380 技术规格:
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阳 |
电感耦合等离子体 |
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*大阳功率 |
>1kW |
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*大离子束流 |
> 1000mA |
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电压范围 |
100-1500V |
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离子束动能 |
100-1200eV |
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气体 |
Ar, O2, N2,其他 |
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流量 |
5-50sccm |
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压力 |
< 0.5mTorr |
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离子光学, 自对准 |
OptiBeamTM |
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离子束栅 |
38cm Φ |
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栅材质 |
钼 |
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离子束流形状 |
平行,聚焦,散射 |
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中和器 |
LFN 2000 |
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高度 |
38.1 cm |
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直径 |
58.2 cm |
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锁紧安装法兰 |
12”CF |
射频离子源 RFICP 380 基本尺寸:
上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.
作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!
若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请联络上海伯东邓女士，分机134
