气体及控制系统。
*气是进行磁控溅射时应用****广泛的气体。在溅射时,*气的多少直接关系到溅射速率以及溅射的均匀性等,因此需要严格控制气体的进气量,一般用质量流量计来实现控制。
溅射功率的增加会****膜厚的均匀性、溅射速率,真空炉,随着溅射功率的增加,等离子体的面积增大,因此膜层的均匀性会****。功率的*,能*****气的电离度,*溅射出的靶材原子数量,从而****了溅射速率。
射汽式抽气器由工作喷嘴、混合室和扩压管三部分组成。工作蒸汽经过喷嘴时热降很大,流速增高,喷嘴出口的高速蒸汽流,使混合室的压力低于凝汽器的压力,因此凝汽器里的空气就被吸进混合室里。吸入的空气和蒸汽混合在一起进入扩压管,在扩压管中流速逐渐降低,而压力逐渐升高。
对于一个二级的主抽气器,真空炉,蒸汽经过*冷却室冷凝成水,空气再由第二级射汽抽气器抽出。其工作过程与首级完全一样,只是在第二级射汽抽气器的扩压管里,蒸汽和空气的混合气体压力升高到比大气压力略高一点,经过冷却器把蒸汽凝结成水,空气排到大气里。
闭路循环气氦制冷机低温泵:它是70年代出现的新型低温泵。这种泵不消耗氦气、操作简便,易于维修,应用日渐广泛。制冷机的制冷介质为气氦,*冷板温度为50~100K,真空,用来冷凝水蒸汽和预冷其他气体;二级冷板温度为10~20K,真空炉,用来冷凝氮、氧和*等气体。在二级冷板的内表面涂以活性炭。活性炭的比表面积为500~2500米2/克,在低温下对氦、*和氢有很强的吸附能力。冷板由无氧铜制成,表面抛光达到镜面程度,以减小辐射系数。