气体及控制系统。
*气是进行磁控溅射时应用****广泛的气体。在溅射时,*气的多少直接关系到溅射速率以及溅射的均匀性等,因此需要严格控制气体的进气量,一般用质量流量计来实现控制。
溅射功率的增加会****膜厚的均匀性、溅射速率,随着溅射功率的增加,非标真空系统,等离子体的面积增大,因此膜层的均匀性会****。功率的*,能*****气的电离度,*溅射出的靶材原子数量,从而****了溅射速率。
随着科学技术的发展以及真空应用领域的扩大,原有的机械真空泵及其组成的抽气系统出现了两个急需解决问题:一是泵的工作介质返流污染被抽容器,而这种返流在许多情况下影响产品的质量、数量,增加设备的维护成本。其次,由于某些工艺过程中的反应物质使真空泵内的介质严重变质,使泵不能正常工作。
对于普通的无油真空系统来说,虽然可用油封式真空泵加上冷阱或吸附阱之类附件来****返流,但不能解决问题,而且使系统显得复杂。而使用适当型式的干式机械真空泵,则可以达到理想的使用效果。
磁控溅射镀膜是气象淀积的一种,广泛应用于电子,建筑,汽车等行业中,真空系统集成,尤其适用于大面积镀膜。
磁控溅射镀膜以其高速、低温、几乎可以溅射任何材料的特点,现在已经成为应用****广泛的薄膜制备方法之一。
磁控溅射镀膜的薄膜均匀性、成膜质量、镀膜速率以及工艺的稳定性和重复性是人们非常关心的问题,淄博真空,而设备的稳定性直接决定了工艺的稳定性。
磁控溅射的种类很多,按所用电源分,可以分为直流磁控溅射、射频磁控溅射、中频磁控溅射。