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真空镀膜技术的发展

随着人们生活水平的不断****，对各种工艺品、建材、家具、电子产品、汽车、玩具、灯具等的表面装饰提出了越来越高的要求。对非金属物件表面金属化或金属物件表面美观化，传统上通常采用电镀的方法。但由于传统电镀毒性大，三废污染特别严重，在人们环保意识逐步加强的今天，它的发展，已受到了各方各面的制约。

真空镀膜技术是近年发展起来的一项新技术。它的原理是金属固体(如铝线等)在高真空状态下受热气化，实验室热蒸发镀膜机关，再以分子或原子形态沉积在基材表面，从而在镀件表面形成一层薄薄的金属膜。由于金属气化后均匀地分布于镀膜机腔体内，所以，通常情况下，镀件表面形成的金属膜十分均匀。

真空镀膜技术的发展与真空镀膜油的开发成功是密不可分的。从某种意义上，我们甚至可以说，没有真空镀膜油就没有真空镀膜。这是由真空镀膜油的作用所决定的。在真空镀膜的过程中，镀膜油起着牢固粘结镀件与金属膜的作用（即作为镀件的底涂层）；真空镀膜后，须在镀件表面涂上一层镀膜油，这时该油又起着保护金属膜、染色等作用（即作为镀件的面涂层）。大部份材料在进行镀膜之前，都必须在镀件表面涂上一层薄薄的镀膜油，*干燥之后再行镀膜，否则，镀上的金属膜****易脱落，轻轻用手即可擦掉。真空镀膜过程中，镀膜质量的好坏很大程度上取决于底涂层的质量。

与传统的电镀法相比，真空镀膜技术具有很多的优点，如装饰效果好，金属感强，成本低(约为传统电镀的1／3～1／2)，污染小，实验室热蒸发镀膜机关厂，易于操作等。特别在非金属物件的应用上，有着传统电镀无法比拟的优势。鉴于此，真空镀膜已被广泛应用于各种塑料、陶瓷、玻璃、蜡、木材等制品的表面金属化上。

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蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司

北京泰科诺科技15年真空行业经验，实验室热蒸发镀膜机关生产商，蒸发类产品市场占有率达80%，实验室热蒸发镀膜机关厂家，现货交付各种蒸发镀膜机;985，211高校实验室全覆盖，专为各大高校，科研院所和生产企业服务；拥有*研发实验室和完善售后服务系统，支持售前试样服务；产品通过ISO9000、CE等多项认证，获得10多项*专利。

公司成立于2003年，目前有逾1000台设备运转，产品遍布全国各地（含港澳台），远销至美国、澳大利亚、土耳其、马来西亚等国，深受用户好评。主要包含热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜机、多弧离子溅射镀膜机、热丝CVD设备、装饰镀膜机、DLC硬质涂层设备等等。

蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters：

型号Model: ZHD300/ZHD400/ZHDS400

镀膜方式Coating Method: 电阻蒸发/多源蒸发

腔室结构 Chamber Structure: 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门

腔室尺寸Chamber Size: Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm

加热温度 Baking Temp: 室温～300℃

旋转基片台 Rotating Substrate Holder: Φ100mm/120mm×120mm

基片台升降 Substrate Holder Lifting: 无/手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%

蒸发源Evaporation Source: 2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)

控制方式Operation Method: PLC

功率 Power: ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW

其他选配 Other Opti*: 蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；

3. 一体化设计，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；

4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。

真空镀膜机知识分享：

蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别？

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。

真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。

离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴****的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜****常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二****溅射利用的是直流辉光放电；三****溅射是利用热阴****支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。

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蒸发源材料如何选择

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

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蒸发源材料如何选择

真空镀膜镀膜技术广泛应用于汽车、电子、印刷等行业，真空镀膜机镀膜主要依靠蒸发源分离出分子，沉淀到待镀物件的表面，形成薄膜。下面，真空镀膜机厂家带大家去了解一下真空镀膜中作为蒸发源的材料需要满足哪些要求。 因为镀膜时，蒸发的温度非常高，为了避免蒸发源材料熔解，选择材料时，要选择熔点高于蒸发温度的。为了****在镀膜过程中带入杂质，蒸发源材料的平衡气压要足够低，低于真空镀膜机镀膜时的平衡气压，保证蒸发源材料自身的蒸发量非常非常少，以免污染镀膜成品。不能选择高温下易分解的材料，为保证蒸发源材料化学性能稳定，要选择高温下不会和镀膜材料发生反应的材料。

综上所述，真空镀膜的蒸发源材料需要熔点高，化学性能稳定，自蒸发量少的材料。

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