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2305金属Cu铜靶材磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

¥300元/件 中国 北京 通州
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2305   金属Cu铜靶材  磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例  重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

  Cuprum)是一种金属元素,也是一种过渡元素,化学符号Cu,英文copper,原子序数29。纯铜是柔软的金属,表面刚切开时为红橙色带金属光泽,单质呈紫红色。延展性好,导热性和导电性高,因此在电缆和电气、电子元件是的材料,也可用作建筑材料,可以组成众多种合金。铜合金机械性能优异,电阻率很低,其中的数青铜和黄铜。此外,铜也是的金属,可以多次回收而无损其机械性能。

中文名

熔点

1357.77K(1083.4℃)

化学式

Cu

沸点

2868K(2567℃)

相对原子质量

63.55

密度

8.96g/㎝³(固态)

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

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以上内容为2305金属Cu铜靶材磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料,本产品由北京京迈研材料科技有限公司直销供应。
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北京京迈研材料科技有限公司

主营:公司主营各种金属靶材,陶瓷靶材,合金靶材和蒸发料

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