产品用途

本系列设备适用于科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

主要用于高温精密退火、微晶化、陶瓷釉料制备、模具退火、粉末冶金、塑胶粉沫实验、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切做高温工艺要求的热处理

产品特点

壳体采用****冷轧钢板双层结构*设计，壳体颜色漆经过高温烘烤而成，经久*。

配有风冷系统，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快等优点。

真空系统采用****设计，具有操作方便、真空度高、真空*小，（****限真空度：10-5pa）

密封系统采用不锈钢法兰与炉管及耐高温O型硅橡胶密封，气体经过流量计后由针阀开关控制，阀控配有进气阀、排气阀、抽真空阀，可充氮气、*气等一切惰性气体

炉膛采用进口复合氧化铝纤维材料经*工艺构筑，比传统电炉节能30%

控制系统采用微电脑人工智能调节技术，具有50段程序编程，并可编制各种升温、恒温、降温程序，控温精度高

晶体模块化可控硅控制、移相触发；采用****加热元件

控制面板：全部采用数字化控制具有（超温、超压、超流、断偶、断电等保护功能）

（炉管、加热区可根据客户要求定制！）

对许多金属和金属合金一个有趣的争论就是，他们是通过物****相沉积(PVD)还是通过化学气相沉积(CVD)能得到****.好的沉积效果。尽管CVD比PVD有更好的台阶覆盖特性，但目前诸如铜的子晶层和钽氮扩散层薄膜都是通过PVD来沉积的，因为现有的大量装置都是基于PVD系统的，工程技术人员对PVD方法也有较高的熟练程度。一些人建议，既然台阶覆盖特性越来越重要(尤其是在通孔边墙覆盖)，CVD方法将成为必不可少的技术。相似的争论也存在于产生低k值介质材料方面：是使用CVD方法好还是采用旋涂工艺好？

在化学气相沉积中，决定晶圆间薄膜均匀性的重要参数之一是晶圆间的气体是如何流动的。上图所示是Novellus概念下Three ALTUS系统中，一个晶圆及其基座上的SiH4集中度和钨沉积率的典型路径图。

什么是卧管立式炉？它有哪些特点？

答：立式炉的辐射室为较窄长的矩形，燃烧器布置在炉底，向上烧火。一般在辐射室的上部切出斜肩，避免烟气*生死角，这种炉型称为卧管立式炉。它的优点在于火焰和烟气流向与炉管垂直相交，便于将高温、介质易裂解和易结焦的炉管避开炉内高温区，因此特别适用润滑油型减压炉、于焦化炉、沥青炉等。