管式气氛炉的主要结构分为两大类，如下：

　　1.管式气氛炉的外壳采用钢板这边焊接而成，外表静电喷涂，美观大方。炉膛采用耐高温的碳化硅材料制成，加热元件为铁铬铝合金丝缠绕在炉膛上。工作室为****高密度刚玉管，刚玉管的两端配有法兰装置，可以对炉膛内部抽真空。也可以通入气氛保护。

　　2.控制部分采用数显自动控温，也可以根据用户的需要配置智能PID控温仪，可以设置50段升温曲线，具有超温报警功能。

方法的优缺点比较

　　各种方法都有其有缺点：从大的方面讲，直接PECVD法对样品表面有损伤，会增加表面少子的复合，但是也正是由于其对表面的轰击作用，可以去除表面的一些自然氧化层，使得表面的杂质原子得到*，另外直接法可以使得氢原子或氢离子更深入地进入到多晶硅晶界中，使得晶界钝化更充分。

　　使用不同频率的PECVD系统，也各有一定的优缺点：

　　（1）频率越高均匀面积越小，越难于达到大面积均匀性。

　　（2）频率越低对硅片表面的损伤越严重。

　　（3）频率越低离子进入硅片越深，越有利于多晶硅晶界的钝化。

管式加热炉是如何分类的？

答：按功能可分为：加热型和加热—反应型两大类。

加热型管式炉：常压炉、减压炉、各种分馏塔进料加热炉、塔底重沸炉、焦化炉、重整炉和加氢炉等各种反应器（塔）进料加热炉；

加热—反应型管式炉：制氢炉、乙烯裂解炉等。

按主要传热方式分为：纯对流炉、纯辐射炉、辐射-对流型炉和双面辐射炉。

按炉型可分为：圆筒炉、立式炉和大型箱式炉三大类。