晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备
光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准*、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻注意事项给出如下:
涂胶
涂胶时要注意将基片放在吸盘正中间,且吸盘水平度较高,否则会影响胶模厚度的均匀性;匀胶时一般先低速旋转将胶模铺开,然后高速决定胶模厚度,一般转速在1000~5 000 rpm。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
性能指标光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、*方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。