晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻注意事项给出如下:
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*是通过具有所要图形的模版,将图形传递到胶模上。光源一般采用*灯或*氙灯,所发光波长为紫外。对于正胶来说,*使得透光区的大分子链被*,显影的时候这部分被去除;而对于负胶来说,*使得透光区的小分子发生交连,显影时这部分被保留。所以正、负胶对于同一块模版来说,所刻出的图形是互补的。
光刻机的演变及今后发展趋势
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力,21世纪光刻技术将继续居于诸多技术*。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战,揭示下一代光刻设备的发展潜力,通过比较浸没式光刻、****紫外光刻机和电子束*机的开发现状和特点,预言将来利用****紫外光刻机、电子束*机和光学光刻机的结合,实现产业需要的各种图形的制备。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻注意事项给出如下:
涂胶
涂胶时要注意将基片放在吸盘正中间,且吸盘水平度较高,否则会影响胶模厚度的均匀性;匀胶时一般先低速旋转将胶模铺开,然后高速决定胶模厚度,一般转速在1000~5 000 rpm。