张家港晋宇达电子科技有限公司

主营:光刻机,尼康步进光刻机,半导体前道设备

步进光刻机,徐州步进光刻机,晋宇达

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产品属性

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     步进重复投影*(Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper)。80年代末~90年代,0.35μm(I line)~0.25μm(DUV)。掩膜板缩小比例(4:1),*区域(Ex*ure Field)22×22mm(一次*所能覆盖的区域)。增加了棱镜系统的制作难度。


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     光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻,而不影响光刻工艺的质量。场镜误差的匹配性****终反映在民机场内套刻误差的差异性上,因为每种透镜均有一个特征畸变图形,其位置误差作为*像场位置的一种函数。


      张家港晋宇达电子科技有限公司是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

      光刻机/紫外*机(Mask Aligner) 又名:掩模对准*机,*系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.

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