张家港晋宇达电子科技有限公司

主营:光刻机,尼康步进光刻机,半导体前道设备

半导体前道设备、常州半导体前道设备、晋宇达

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产品属性

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光刻机*度a.接触式*(Contact Printing):掩膜板直接与光刻胶层接触。*出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接触式,根据施加力量的方式不同又分为:软接触,硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住(类似于匀胶机的基片放置方式),掩膜盖在基片上面;2.硬接触 是将基片通过一个气压(氮气),往上顶,使之与掩膜接触;3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气,使之更加好的贴合(想一想把被子抽真空放置的方式)


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投影式*(Projection Printing):在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现*。一般掩膜板的尺寸会以需要转移

优点:****了分辨率;掩膜板的制作更加容易;掩膜板上的缺陷影响减小。

投影式*分类:

扫描投影*(Scanning Project Printing)。70年代末~80年代初,〉1μm工艺;掩膜板1:1,全尺寸;




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光刻机性能指标光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、*方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的****细线条精度的一种描述方式。

光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

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