当今是以半导体技术为核心的信息时代，半导体在生产的过程中将会产生大量的气体、有机和无机物等，那电子半导体的废气应该怎么处理呢？

　　电子半导体行业在生产时会使用显影剂、光刻胶、清洁剂、蚀刻液等溶剂，而这些溶剂是含有大量的有机物成分。

　　工业上的有机废气处理常用的工艺有:活性炭吸附处理法、酸碱中和法、等离子法、直接燃烧法、催化燃烧法、吸收法、冷凝法等。
　　目前，电子半导体行业的废气采用吸附、焚烧两者相结合的废气处理方法。
　　活性炭吸附：其原理是利用多孔性固体吸附剂处理混合气体，使废气中的气体成分吸附在固体表面以达到分离的目的，该废气处理设备能够有效的去除浓度很低的物质，净化设备操作方便。
　　焚烧：焚烧的原理是在热氧化中，有机废气流经过加热，气相中的有机物被氧化，将有机物C02和H20，通常是用于流量稳定的、低浓度的气体。
　　因电子半导体焚烧的过程中会产生Si02，而Si02会使催化剂钝化，所以在市场上电子半导体是很少用到接触氧化的方法。