请教关于磁控溅射镀膜和电子束镀膜的区别

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发镀膜仪

这两个虽然都属于PVD，实际区别太大了，几乎没法比较，电子束蒸发镀膜仪多少钱，均匀性溅镀好，致密性溅镀好，沉积速率貌似是蒸镀高，具体建议楼主找相关书籍阅读。

一般蒸镀慢，附着力和致密性较溅镀差，颗粒尺寸较小，均匀性就看设备怎样了

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比较电子束蒸镀优劣

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优劣比较电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀大的优势在于：可以为待蒸发的物质提供更高的热量，因此蒸镀的速率也更快；电子束*准确，可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷，对能量的利用率不高；而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离，也有可能带来污染。此外，电子束蒸发镀膜仪厂家*，大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解，这影响了薄膜的成分和结构。

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电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析研究

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电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析研究

随着科学技术的不断发展，半导体器件的种类不断增多。原始点接触晶体管、合金晶体管、合金扩散晶体管、台面晶体管、硅平面晶体管、TTL集成电路和N沟硅栅平面MOS集成电路等，其制造工艺及工艺之间的各道工序也有所差别。在硅平面晶体管工艺过程中，电****材料的制备技术是一项关键工艺，典型的制备技术主要有两类：一类是电子束蒸发镀膜技术，另一类是磁控溅射镀膜方法。长期以来，在生产实践中由于电了束蒸发与磁控溅射这两种方法制备晶体管微电****各具优势，而且各自采用的设备和工艺不同，因而其产品质量孰优孰次一直存在争论。本文就这一问题展开研究，详细分析了常用电****材料Al通过这两种方法制备成薄膜电****的膜厚控制、附着力、致密性、电导率和折射率等重要性能指标，测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子束蒸发。

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