广州市茂美标牌加工厂，座落于番禺区桥南街陈涌工业区，专注于腐蚀面板加工，腐蚀面板定制，机械控制面板定做，不锈钢蚀刻面板加工，机械面板腐蚀定制，设备蚀刻面板加工，腐蚀机械面板定制，机箱设备面板定制、电子秤按键面板定做等，接单领域主要集中在广州、深圳 、佛山 、东莞、中山、珠海、江门、肇庆、惠州等地，均可加工定制生产。产品还有腐蚀标牌，不锈钢直尺加工、铝铭牌制作、不锈钢铭牌制作、机械设备控制面板、亚克力标牌等。制作工艺：UV印刷、喷漆、丝印、热转印、凹凸，冲压、磨光、拉丝、电镀、氧化、喷砂、激光、注塑、磨光、电铸、腐蚀等一体化的大型*标牌加工制作厂。

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蚀刻是制造薄膜晶体管液晶显示装置(ThinFirm Transistor Liquid Crystal Display，TFT_LCD)阵列基板过程中的一个重要制程。蚀刻工艺根据蚀刻剂的物理状态分为干蚀刻工艺和湿蚀刻工艺，干蚀刻工艺利用蚀刻气体进行蚀刻，湿蚀刻工艺利用蚀刻液体进行蚀刻。

现有的干蚀刻装置通常包括:真空腔(未图示)、设于所述真空腔内的上电*板(未图示)、与上电*板相对间隔设置的下电*板1、位于所述下电*板I下方用于承载下电*板I的绝缘板2、设于所述下电*板I上的静电吸附平台3、位于上、下电*板I之间的等离子体(Pla*a)真空放电区(未图示)、及与上、下电*板相连的电源(未图示)，利用等离子体真空放电区内的高压电场互相作用所产生的等离子体来对设于静电吸附平台3上的晶元或玻璃基板4进行蚀刻。

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干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点:一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，蚀刻面板加工工厂，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的。现有技术中，蚀刻面板加工电话，高速率干法刻蚀所用等离子激发手段主要为ICCP(Impressed Current CathodicProtect 1n，外加电流阴*保护)，若要想进一步提高刻蚀速率，一般来说可以通过提高等离子体激励源频率来获得更高的等离子体截止密度，达到提高刻蚀速率的目的。但提高激励源频率会导致电*表面驻波等问题，导致刻蚀速率不均匀，无法大面积均匀刻蚀。

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蚀(湿)刻)的工艺原理

主要是通过将化学药液（酸）通过Spray，DIP等方式，处理已经显影坚膜的后有PR图案的Array基板，让化学药液与没有被光阻覆盖的金属膜接触并腐蚀掉这部分金属膜，保留下被PR覆盖的部分。 对于蚀刻反应有用的成分 ?游离硝x酸 ?游离醋酸 ?游离*AL刻蚀的反应 一阶段（生成游离氧原子）

第二阶段（生成中间体）

第三阶段（中间体和酸的反应）

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工艺设计

从充电桩的结构特点我们可以看出，大部分充电桩的结构中都存在大量的焊缝、夹层、半封闭或封闭的结构，这对充电桩的工艺设计造成了较大的挑战。传统的静电喷粉工艺由于静电屏蔽作用的存在，粉层无法在夹层、焊缝和空腔结构中附着，造成了*大的腐蚀隐患。为了解决这个问题，工艺人员提出了三种工艺设计方案：

⑴双层粉末涂层体系。底涂层：环氧重防腐粉末50μm；面粉：纯聚酯耐候粉末50μm；总厚度：不小于100μm。

⑵电泳底层 粉末涂层体系。底涂层：电泳20～30μm；面粉：纯聚酯耐候粉末50μm；总厚度：不小于70μm。

⑶浸涂 粉末喷涂体系。底涂层：水性环氧防腐底漆（浸涂）25～30μm；面粉：纯聚酯耐候粉末50μm；总厚度：不小于80μm。

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工艺流程为：不锈钢板→除油→水洗→干燥→丝网印刷→干燥→水浸→蚀刻图纹叶(片)水洗→除墨→水洗→抛光→水洗→着色→水洗叶(片)硬化处理→封闭处理→清洗叶(片)干燥→检验→产品。一般用材：不锈钢8K镜面板、不锈钢拉丝板（型号：80、120、180、240、320、400、600）、不锈钢雪花砂、普通砂、喷砂、各种彩色不锈钢板上蚀刻。不锈钢规格：1000mm*2000mm、1219mm*2438mm、1219mm*3000mm、1219mm*3048mm、1219mm*4000mm 常规的制版型号为1219mm*2438mm不锈钢材质：304、316、430，其他的材质不保证质量要求

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