近几年，上将真空镀膜应用于手印显现的设备陆续出现，其中大多是经改装的工业用真空镀膜设备。但工业用真空镀膜设备由于其设计目的并非用于物证检验，因此在镀膜流程控制上无法满足手印显现的要求。服务于法庭科学的真空镀膜手印显现设备，真空电镀，其基本原理也是在密闭高真空环境下（10-4毫巴级）通过镀一种金属或多种金属显现物证上的潜在手印，圣诞真空电镀，但其在产品的设计上与工业用的真空镀膜设备有着诸多本质区别。

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真空电镀主要包括：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。

在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜，目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。

真空镀膜技术*应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜，并在1945年应用于眼镜片的镀膜。随着科技的不断发展，真空镀膜技术和设备发展迅速，工艺品真空电镀，广泛应用于工业领域，包括建筑五金、锁具、制表、大型工件等物品的均匀镀膜等，以达到诸如增加光学镜头的透光率或反光率、使五金、锁具、塑料制品等产品美观、*、防腐蚀等目的。