选用低加速电压，梅州投射电镜分析，即意味着使用低能电子束，入射样品后受到散射的扩散区域小，相互作用区接近表面，有利于表面形貌成像。常规加速电压观察半导体或绝缘体时，样品必须镀导电膜，这时形貌衬度是成像衬度，膜层完全掩盖了样品不同元素出射电子产率的变化，不能观察到样品的成分衬度。选用低能电子束，样品不用镀膜，可直接观察样品的形貌和成分衬度，充分反映出材料的原貌。

对于某些导电性差的材料，如半导体、集成电路、印制板、电脑零件、纸张、纤维、或者含水的动植物样品，要求直接观察微观形貌，使用常规高真空（High vacuum，HV）成像受到限制，应该使用VP（Variable pressure，可变压力模式）或EP（Extend pressure，扩展压力模式）成像技术。

1.金属断口和机械零部件的表面通常会含有油污、粉尘等外来污染物，这种样品在放进台式扫描电镜分析之前，要先用家用洗涤剂再用进行超声清洗，以免影响分析结果和污染样品仓。

2.有些要测量横截面的膜层、金属间化合物的厚度等块体样品往往需要经研磨、抛光和化学刻蚀等处理。研磨时为了避免边缘产生倾斜或形成圆钝角，影响表层膜厚及离子迁移深度等的测定，可用双面夹持片夹紧后进行研磨、抛光，再经刻蚀、超声清洗、干燥之后即可分析。

3.对于要分析或测量样品的表面镀层、中间夹层或者合金化层的微小薄层成分，以及测量薄样品的截面厚度，可以用塑料米包埋、加热、加压进行固化或采用环氧树脂浆料把样品包裹固化后再进行研磨、抛光和化学刻蚀，经超声清洗、干燥之后，再蒸镀导电层就可放入样品仓中分析。

透射电镜在材料检测领域的重要性不言而喻，但是想要适得其用却并不容易。从样品的制备、载网的选择，到仪器的操作与使用，投射电镜分析价格，再到图像和数据的分析，每一步都需要小心细致，否则难以得到可靠、有用的信息。因此按照标准的方法来操作至关重要。

样品的要求标准︰

1. 样品一般应为厚度小于100nm的固体。

2. 感兴趣的区域与其它区域有反差。

3. 样品在高真空中能保持稳定。

4. 不含有水分或其它易挥发物，投射电镜分析中心，含有水分或其他易挥发物的试样应先烘干除去。

5. 对磁性试样要预先去磁，以免观察时电子束受到磁场的影响。TEM样品常放置在直径为3mm的200目样品网上，在样品网上常预先制作约20nm厚的支持膜。