综合来说，100～150目的样品熔制效果好于未筛分的及筛分的其他粒度。图1不同粒度硅砂配合料制备的高应变点玻璃显微图像从图3中可以明显的看出未筛分硅砂熔制的玻璃样品的均匀性差，采用筛分过的3个粒度硅砂熔制的玻璃样品均匀性均好于未筛分的;而100～150目的样品熔制的玻璃样品均匀性又优于60～100目、150～230目的样品。此现象产生的原因为:玻璃配合料中硅砂的粒度越小，容易在配合料高应变点玻璃熔制、澄清效果的影响143硅砂粒度为150～230目时，由于超细粉的粒径非常小，表面积就越大，与其它反应物的接触的面积就越大


要通过控制主要原料硅砂的粒度范围来研究高应变点玻璃的熔制特性。通过金相显微镜和场发射扫描电子显微镜(SEM)分别测试样品中的气泡大小、成分的均匀性。通过对不同粒度硅砂配合料进行熔制过程的高温观察分析(HTO)，探讨硅砂的不同粒度对高应变点玻璃熔制行为和澄清时间的影响。研究结果表明，滚圆机结构，当硅砂粒度控制在100~150目时，滚圆机，样品的气泡含量少，成分较为均匀，全自动滚圆机，熔制、澄清时间较短。


不同粒度硅砂配合料在1550℃的熔化状态℃图6不同粒度硅砂配合料的气泡直径平均尺寸变化论硅砂的粒度范围影响高应变点玻璃的熔制效果，包括熔制、澄清时间，玻璃样品中的气泡大孝成分的均匀性。通过本实验研究结果表明，当硅砂粒度控制在60～100目时，滚圆机价格，熔制、澄清时间都比100～150目的样品长，残留未熔物较多，玻璃均匀性也比100～150目的样品差。


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