研磨机常用的研磨盘有铜盘，化学抛光液，锡盘，抛光液厂家，不锈钢盘，铁盘，树脂盘。每种材料的研磨盘应用的工件类型也有所差别。铜盘主要功能是精磨，多用于蓝宝石等工件的精磨；锡盘也是侧重精磨，不过是用于精磨陶瓷产品；不锈钢盘一般用于金属产品的精磨；铁盘的功能就侧重于粗磨，主要是对铁、合金钢产品进行粗磨；树脂盘一般用于塑胶、模具等工件的粗磨。


对于网格状抛光垫表面，具有较大孔尺寸的抛光垫储存、运送抛光液的能力较强，但太大孔会导致抛光垫的密度减小、硬度降低。抛光垫的粗糙度对材料去除率有着直接的影响。抛光垫粗糙的表面有利于提高材料去除率，这是因为表面粗糙度高的抛光垫与工件表面的接触面积减小，南通抛光液，而且粗糙的抛光垫表面可储存更多的抛光液，因此作用在单颗磨粒上的力*，氧化铝抛光液，单颗磨粒的去除材料体积*。优化抛光垫表面粗糙度可在提高抛光效率的同时获得无损伤层的工件表面。此外，抛光垫厚度也是一个重要因素。对于作为后工序超精密抛光，抛光垫厚度必须优化。


聚胺脂抛光片*使用 当聚胺脂抛光片在模具上粘附好后，应*行修盘。通常用w40的金刚石丸片对抛光模表面（球面或平面）进行校正和是十分必要的。在聚胺脂抛光摸使用的过程中，可根据需要采用刷子对聚胺脂表面进行打毛，将有助于提高抛光速率。

影响因素

①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力；

②压缩比-压缩比反应抛光垫的*变形能力；

③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量；

④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度，；

⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度；抛光皮

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