磨料在粒径大小可影响到磨粒的压强及其切入工件的深度。一般来说 ，抛光布分类，在抛光过程中， 粒径大的磨粒压强*山抛光布，机械去除作用较强，材料去除率较高。所以

粒径较大的磨粒容易在抛光表面产生较大的残留划痕甚至残留裂纹;而粒径较小的磨粒可获得较好的抛光表面质量。另外在磨粒直径相同的情况下，抛光布价格，球形

磨粒比表面不平的磨粒去除效率更高。

2 ph值调节剂

抛光液中常常添加一些化学*用于调节抛光液的ph值。以保证抛光过程化学反应的进行。化学机械抛光抛光液一 般分为酸性和碱性两大类。

用于CMP的抛光垫必须具有良好的化学稳定性(耐腐蚀性)、亲水性以及机械力学特性。抛光垫通常可分为硬质和软质(弹性、粘弹性)两种。

硬质抛光垫可较好地保证工件表面的平面度

软质抛光垫可获得加工变质层和表面粗糙度都很小的抛光表面

用于CMP过程的硬质抛光垫有各种粗布垫、纤维织物垫、聚乙烯垫等，抛光布的使用，软质抛光垫主要有聚氨酯垫、细毛毡垫、各种绒毛布垫等。抛光皮

聚胺脂抛光片*使用 当聚胺脂抛光片在模具上粘附好后，应*行修盘。通常用w40的金刚石丸片对抛光模表面（球面或平面）进行校正和是十分必要的。在聚胺脂抛光摸使用的过程中，可根据需要采用刷子对聚胺脂表面进行打毛，将有助于提高抛光速率。

影响因素

①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力；

②压缩比-压缩比反应抛光垫的*变形能力；

③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量；

④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度，；

⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度；抛光皮

抛光布分类-新光速光电(在线咨询)-佛山抛光布由昆山新光速光电科技有限公司提供。昆山新光速光电科技有限公司位于江苏太仓双凤镇新湖维新路一号。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前新光速光电在五金配件中享有良好的声誉。新光速光电取得商盟认证，我们的服务和管理水平也达到了一个新的高度。新光速光电全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。