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在这些紊流中，由于风速较低，空气稀释程度较小，从而使得污染浓度较高。因此，机电净化工程，必须将风速保持在0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分钟至100英尺/分钟）的范围里，以便使中断的单向流能快速恢复，充分稀释障碍物周围紊流区的污染。用风速可以正确地表示出单向流

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同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。气压规定对于大部分洁净空间，手术净化工程，为了防止外界污染*，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则，洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。