公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
掩膜是一种图像滤镜的模板,实用掩膜经常处理的是遥感图像。当提取道路或者河流,或者房屋时,通过一个n*n的矩阵来对图像进行像素过滤,然后将我们需要的地物或者标志突出显示出来。这个矩阵就是一种掩膜。
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光刻机的结构和工作原理:
光刻机的光源有:激光,紫外光、深紫外光、*紫外光。现在*技术是*紫外光。
下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图:
在制造芯片时,首先在晶圆(硅晶片)表面涂光感胶,再用光线透过掩模版(相当于芯片电路图纸的底片)照射硅片表面,被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶,电路图就印到硅片上。
此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。
硅片上有了电路图的图样后,就轮到刻蚀机登场,刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。刻蚀机按图施工,在硅片表面雕刻出晶体管和电路。
光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,利用*和显影在光刻胶层上刻画器件结构,再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻,步进式光刻,光刻板,接触式光刻等多种光刻技术.
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致*蚀剂涂层选择性*的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boa*,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。