光掩膜上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业，下游主要包括IC制造、IC封装、平面显示和印制线路板等行业，应用于主流消费电子 （手机、平板、可穿戴设备）、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED 照明、物联网、电子等终端产品。

目前全球范围内光刻掩膜版主要以*生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，制版价格，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，制版公司，所以光刻掩膜版都是由*的生产商进行生产。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光致*蚀剂也被称为光致*蚀剂。掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致*蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致*蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。

光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过*过程将图形信息转移到产品基片上。

1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（GDS格式）2） 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式*（*波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，镇江制版，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应3） 经过显影、定影后，*区域的光刻胶溶解脱落，制版哪家好，暴露出下面的铬层4） 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。5） 在有必要的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。