公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

在半导体设备的全部步骤中，在其中部分就是以板图到圆晶（wafer）生产制造正中间的1个全过程，即光掩膜或称光罩(mask)生产制造。这部分是步骤对接的重要一部分，是步骤中工程造价i高的部分，都是限定i小图形界限的短板*。针对数据处理方法关键来源于于加工工艺上的规定，在图像处理上带：1，玻璃板，立即相匹配光掩膜立即相匹配到板图的一层层，如金属材料层。2，逻辑运算光刻图型将会由1层或双层板图层逻辑运算而成。

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的硅基掩膜版是通过微纳加工中常用的刻蚀的方法，在硅基底上刻蚀出的镂空掩膜图案，常被用于二维材料电学，光电等性质的研究。原位芯片通过将的硅基掩膜版覆盖在薄膜材料表面并暴露出电*图案部分沉积金属制备金属电*。

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薄膜特性和适用用途薄膜特性和适用用途...内桶结构，确保准确*；单一光源成像确保准确、均匀和稳定的点密度。它可以输出各种点形状(圆形点、正方形点、正方形和正方形区域的混合点等)。)和各种网络线路(10-625条线路)。适用于彩色胶印、树脂版印刷、丝网印刷、移印和转印。