公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻技术能够 说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理：光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、*紫外线。如今优i秀技术性是*紫外线。图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图：在生产制造集成ic时，i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。

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为了制造一款芯片需要几百道工序，光罩也是不只一张的，在14nm工艺制程上，大约需要60张光罩，7nm可能需要80张光罩甚至更多。当然光罩的品质要求是不同的，对于某些对精度要求很高的工序，光罩，相对应的光罩对精度的要求时的，比如晶体管相关的光罩， 而对精度要求不那么高的工艺，比如Pad（打线孔）等要求就低一些，光罩价格也便宜一些。 *制程对光罩精度的要求越来越高，同时不能有缺陷，所以光罩制造后的检查（Inspection）也很重要。

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图形扩展和收缩即从栅*开始的尺寸操作，例如栅*处的注入层尺寸扩大了。除了对应于电路的图案之外，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。常见的图案包括光标、光刻对准图案和*i灯光控制图形、测试关键图形、光学对准目标图形、划线槽图形以及其他LOGO名称、版本等。