超纯水作为所有的实验用水都可以,特别是高灵敏度、ppt级分析、同位素分析、疾控中心、药检所、质检所、环监站、高校科研等标准实验室及各种精密仪器用水。其他的纯水及双蒸水根据实际情况,在要求不是很严格的情况下也可以用的。
超纯水
纯度*高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外,其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。
超纯水,是一般工艺很难达到的程度,采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤,多级过滤、离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法,电阻率方可达18.25MΩ*cm
超纯水是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有*、病毒、含氯等有机物,当然也没有*所需的矿物质微量元素,一般不可直接饮用,对身体*,会析出*中很多离子。
1、反洗
反洗是为了定期清除膜表面的污染物,保证系统的产水和水质。反洗水使用超滤产水,反洗泵采用变频控制。反洗系统包括水反洗和气反洗。通常由于膜材料强度和运行方式的不同,反渗透水处理设备,一般外压式超滤可同时配套气反洗和水反洗系统,而内压式超滤只配套水反洗系统。主要配置有反洗泵、反洗加药系统详见本篇第六节、压力监测、流量监测、风机或空气储罐及配套阀门管路等设备。
2、超滤化学清洗
当超滤系统采用反洗和加强反洗后,仍不能有效实现对超滤系统污染物的清除,就需要进行必要的化学清洗。化学清洗排水为密闭排放。化学清洗周期一般为每3个月使用一种(或几种)药剂清洗一次,清洗时间一般为3~6h。主要设备包括清洗泵、清洗保安过滤器、配套阀门管路、搅拌器、压力监测、流量监测、温度监测等设备。
3、超滤化学加药
超滤化学加药系统是为了配合系统的化学加强反洗和化学清洗而配置的。加药系统主要包括储药罐,配药罐、计量泵相关管路阀门及其安全保护设施等。加药计量泵进口设滤网,出口装设脉冲缓冲器、安全阀(计量泵内部已设计有过压保护者除外),小型反渗透设备,药品注入点设管式混合器。
4、产水
超滤产水需收集到固定的产水箱,反渗透设备,产水外送泵将超滤产水输送到下一单元。产水系统主要配置产水箱、产水外送泵、阀门管路、压力监测、流量监测、浊度监测等。
矿泉水瓶装流水线在进行生产的时候,对于矿泉水瓶装流水线的生产过程是怎样的,具体是怎样的一个生产流程,小编带大家来共同学习一下。
瓶子由通过风送道传递,然后通过拨瓶星轮传送至三合一机的冲瓶机。冲瓶机回转盘上装有瓶夹,瓶夹夹住瓶口沿一导轨翻转180°,使瓶口向下。在冲瓶机特定区域,冲瓶夹喷嘴喷出冲瓶水,对瓶子内壁进行冲洗。瓶子经冲洗、沥干后在瓶夹夹持下沿导轨再翻转180°,反渗透纯水设备,使瓶口向上。洗净后的瓶子通过拨瓶星轮由冲瓶机导出并传送至灌装机。进入灌装机的瓶子由瓶颈托板卡住并在凸轮作用下将瓶子上升,然后由瓶口将灌装阀顶开。灌装采用重力灌装方式。灌装阀打开后物料通过灌装阀完成灌装过程,灌装结束后瓶口下降离开灌装阀,瓶子通过卡瓶颈过渡拨轮进入旋盖机。旋盖机上的止旋刀卡住瓶颈部位,保持瓶子直立并防止旋转。旋盖头在旋盖机上保持公转并自转,在凸轮作用下实现抓盖、套盖、旋盖、脱盖动作,完成整个封盖过程。成品瓶通过出瓶拨轮从旋盖机传送到出瓶输送链上,由输送链传送出三合一机。