本实用新型在使用的时候，通过底盖15或底盘2把指环扣固定安装在手机壳上，把指环6连同装饰件7和上盖11相对旋转盖5且在旋转盖5的边缘上掀起，由于指环6与旋转盖5铰接，手机扣订做，旋转盖5与旋转件4花键连接，旋转件4可相对固定在手机壳上的底盘2转动，故当使用者推动指环6转动时，手机扣生产厂家，指环6依次带动旋转盖5和旋转件4转动，实现指环6沿着底盘2的边缘，手机扣生产商，相对底盘2转动。同时，当指环6转动的时候，在指环6内的装饰件7会随着指环6的转动而在指环6内转动，为指环6的使用增加了美感及趣味性。


离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴*溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图]，将基片台作为阴*，外壳作阳*，充入惰性气体以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和亚离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。


放电产生的正离子在电场作用下飞向阴*，与靶表面原子碰撞，广州手机扣，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制，可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体(O、N、HS、CH等)加入Ar气中，反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。


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