钙钛矿镀膜设备

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！

设备用途 ：

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

设备组成：

该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。

1、镀膜室：方形前后开门结构，单室有机无机热蒸发镀膜机定做，内带有防污板。

2、真空度：镀膜室的*限真空≤5×10-5Pa；

3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套

4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；

5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，350型四源有机无机热蒸发镀膜机定做，测温控温。

6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?

多源有机无机蒸发系统

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主要用途：

用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。

系统组成:

由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。

技术指标：

*限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm

样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；

电*：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜

样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃

4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。

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双靶磁控溅射镀膜仪

产品特点

1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜

2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3、该镀膜仪体积较小，多源有机无机热蒸发镀膜机定做，且配备有触摸屏控制面板，有机无机热蒸发镀膜机定做，操作方便。

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