磁控溅射“磁控反应”介绍

磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳*，真空腔体表面以及靶源表面，从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳*，从而消除阳*表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，800型磁控溅射沉积系统厂，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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磁控溅射设备的主要用途

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（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。

（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

（3） 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（CVD）或金属有机

（4）化学气相沉积（CVD）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

（5） 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

（6）在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、*损性和*高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域，2200型磁控溅射沉积系统厂，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。

小型磁控溅射仪的优势

设备主要优势

实用性：设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，双室磁控溅射沉积系统厂，可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件；通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换，实现一机多用；

方便性：设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁；

高性价比：设备主要零部件采用进口或国内品牌，以国产设备的价格拥有进口设备的配置，从而保证了设备的质量及性能；

安全性：*开发的PLC 触摸屏智能操作系统在传统操作系统的基础上新具备了漏气自检与提示、通讯故障自检、*维护提示等功能，保证了设备的使用安全性能；

期望大家在选购磁控溅射产品时多一份细心，磁控溅射沉积系统厂，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多磁控溅射产品的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！