脉冲激光沉积的自动化
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自动化装置:
控制样品温度和旋转
靶台的位置控制
靶台旋转
气体控制
速率及厚度计算(利用QCM输出)
激光束扫描(可选)
激光束屏蔽控制
自动泵抽和充气
差分泵抽结构
RHEED分析(可选)
装载室压强监控(可选)
脉冲激光沉积系统配置介绍
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脉冲激光沉积系统配置:
生长室,进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压RHEED,工作气压可达100Pa可预留法兰,用于LEED,K-Cell, E-beam等其它可选项如臭氧发生器,离子源,掩膜系统等。
脉冲激光沉积的应用领域
沈阳鹏程真空技术有限责任公司*生产、销售脉冲激光沉积,以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,氮化物,硫化物薄膜,金属薄膜,磁性材料等。
应用领域:
单晶薄膜外延(SrTiO3,激光脉冲沉积设备厂家,LaAlO3)
压电薄膜(PZT,AlN,BiFeO3,BaTiO3)
铁电薄膜(BaTiO3,KH2PO4)
热电薄膜(SrTiO3)
金属和化合物薄膜电*(Ti,Ag,Au,Pt,Ni,Co,SrRuO3,激光脉冲沉积设备报价,LaNiO3,激光脉冲沉积设备,YZrO2,GdCeO2,LaSrCoFeO3)
半导体薄膜(Zn(Mg)O,AlN,SrTiO3)
高K介质薄膜(HfO2,CeO2,Al2O3,BaTiO3,SrTiO3,PbZrTiO3,LaAlO3,Ta2O5)
超导薄膜(YBa2CuO7-x,BiSrCaCuO)
光波导,激光脉冲沉积设备价格,光学薄膜(PZT,AlN,BaTiO3,Al2O3,ZrO2,TiO2)
超疏水薄膜(PTFE)
红外探测薄膜(V2O5,PZT)