近日，苏州纳米所印刷电子中心苏文明团队基于混合式印刷增材制造技术，优化压印模具结构参数，实现了2：1深宽比和4μm线宽的凹槽结构，再结合刮填薄层纳米银油墨的种子层，金属蚀刻加工，用电筹沉铜技术在凹槽中填满致密的铜。由于电沉积过程金属铜完全限制在凹槽中只能单向生长，避免了扩线，从而获得高深宽比的铜网格，金属蚀刻价格，因而在不影响光透过率的情况下增加了金属网格的厚度，同时电镀的网格具有铜本征的高电导率，终在86%的高透光率下，方块电阻低至0.03Ω/□，FOM值超过80000，达到国际先水平（FOM是透明导电膜的综合质量因素，指光透过与方阻的比值，如ITO的FOM<300）。该研究成果以博士研究生陈小连为文章第作者，苏文明与崔铮为共同通讯作者。该工作得到科技部重点研发计划、中科院纳米先导专项等的支持。

金属蚀刻表层的光滑度对蚀刻工艺的危害较为大，表层不光滑时，不需蚀刻工艺的一部分刷涂的耐腐蚀胶难以消除整洁，必须蚀刻工艺的位置因为表层不光滑，蚀刻工艺出去的刻线也不光滑高低不平，衢州金属蚀刻，因此在蚀刻工艺以前，金属表层 要开展打磨抛光，能够依据状况及对商品的规定制订出打磨抛光的计划方案及采用方式，实际可参照第二章打磨抛光一部分。

蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。它可通过*制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，金属蚀刻画，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。