真空镀膜机设备真空镀膜机系统特点

真空镀膜机在等离子体束溅射中，溅射离子均匀刻蚀靶面，并且不会使靶面产生氧化。与磁控溅射相比，其中的等离子体束是由射频等离子体源产生的，磁场的作用则是使等离子体束会聚并偏转至靶面，因此，虽然等离子体束溅射镀膜系统内也有磁场，但其磁场却并不控制影响溅射，这也摒弃了磁控溅射中由磁场不均匀带来的“磁控”的缺点。在溅射完成后，所得的靶材利用率可高达90%以上。

真空镀膜机即分别进行磁控溅射和等离子体束溅射之后靶面刻蚀的对比图。由于靶材的利用率大幅度提高，也解决了磁控溅射中所难以克服的缺点，即靶中的毒导致的刻蚀不均匀

真空镀膜机此外，磁控溅射由于背面磁铁磁场不均匀而产生溅射跑道，非磁场约束区很容易产生氧化，因此很难沉积铁磁性材料，而等离子体束溅射中由于不用磁铁作为等离子体约束，能够进行铁磁性材料的镀膜，并且可以使用很厚的靶材，图3中实验金属钴的厚度即为6mm。对于铁、镍、铬以及铁磁性化合物，等离子体束溅射也都具有很高的溅射速率。

应用该项镀膜技术的系统还有一个优点，当将电磁线圈的*性反接时，由于磁场的方向产生了变化，等离子体束会在磁场的作用下轰击基片，从而对基片产生清洗作用,如图4所示。这实际上可以使得应用该项技术的镀膜机省略常规镀膜机的清洗用离子源。

磁控溅射真空镀膜机生产相关知识

跟镀膜行业有接触的工作人员，几乎人人都知道磁控溅射技术，它在现今市场应用非常广泛，各行各业镀膜层都大量投入使用，获得众多商家和客户的认可。今天至成小编为大家详细介绍一下磁控溅射真空镀膜机生产方面的相关知识。磁控溅射真空镀膜机生产实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了、大面积有机光电器件和电路的制备。

控制系统特点：

1）采用具有超温偏差保护、磁控溅射生产数字显示的微电脑P.I.D温度控制器，带有定时功能，控温可靠。

2）超温保护、定时停机、来电恢复、温度修正等功能。

3）具有断电恢复功能，在外电源突然失电又重新来电后，磁控溅射真空镀膜机可自动按原设定程序恢复运行。安全装置：A）虑周全的安全保护设计，实现对人员、样品和设备的三重安全保护。B）全功能：传感器故障报警、超温报警、*式过升防止器、*式超温保护器、过电流跳闸保护等。

DLC真空镀膜设备的分类与应用

金刚石膜(DLC)真空镀膜设备是在塑料玻璃金属等表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的设备，DLC真空镀膜设备镀出的膜层牢固且细密环保，我们日常生活中都离不开DLC真空镀膜设备。

金刚石膜(DLC)真空镀膜设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。

经至成真空科技技术人员多年专注研发，通过特有的阴*电弧离子和非平衡磁控系统，开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统，使镀膜层附着有力致密、从复度一致性好等特点；

解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求*起硬的刀具、模具等。镀制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC等。

DLC镀膜设备技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。DLC镀膜设备技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

DLC镀膜设备是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，蒸发DLC镀膜设备而在其中配装蒸发装置和磁控装置，蒸发DLC镀膜设备可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。

金刚石膜(DLC)真空镀膜设备应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。