金属抛光蜡配方：

配方1、 三压硬脂酸14.8二压硬脂酸11.8脂肪酸6油酸 0.7氧化铬66.7

配方2 、三压硬脂酸14.8二压硬脂酸11.8脂肪酸6油酸0.7氧化铬 39.7白泥 2.7

配方3、 三压硬脂酸18.2二压硬脂酸12.1脂肪酸2.3油酸1.5氧化铬43.8氧化铝22.1

配方4 、三压硬脂酸18.2二压硬脂酸12.1脂肪酸2.3 油酸1.5 氧化铬24.4氧化铝15.4白泥26.1

1. LED行业LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，亚克力抛光液，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度****高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，工业抛光液，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。

2.半导体行业CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，汽车抛光液，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是可以在整个硅圆晶片上都是平坦化的工艺技术。

抛光蜡的制作工艺：

（1）抛光槽可采用普通钢板制造，内表面需****酸涂料，外表面焊嵌散热片，抛光液，再将该槽放入冷却槽内。冷却液采用自来，可与水洗槽相接，****糟蹋。

（2）工件必须在颤动过程中抛光，应尽量****工件重迭，必要时可加纱网离隔。

（3）过滤是指循环过滤。可采用膜片式PP材料过滤机，两套滤芯，一套运用，另一套清洗备用。若不过滤反响生成物质，任其附着在工件表面将会影响终究的光亮度。

（4）要常常整理抛光蜡中的沉淀物，肯定不允许金属物掉在抛光蜡中，不然将会造成抛光蜡的糟蹋进而失效。