温度对微弧氧化的影响

微弧氧化与阳****氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10—90度。温度越高，微弧氧化图片，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，会形成水气。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化设备，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源

　影响微弧氧化效果的因素

一、电流密度

(1)电流密度越大，氧化工业铝型材的生长速度越快，工业铝型材厚度不断增加，但易出现烧损现象；

(2)随着电流密度的增加，击穿电压也升高，氧化工业铝型材表面粗糙度也增加；

(3)随着电流密度的增加，氧化工业铝型材硬度增加。

二、电源频率

(1)高频时，微弧，工业铝型材生长速率高，但厚度较薄。高频下*中非晶态相的比例远远高于低频试样；

(2)高频下孔径小且分布均匀，整个表面比较平整、致密。低频下微孔孔隙大而深，且试样****易被烧损。

微弧氧化膜层性能检测

微弧氧化膜层性能检测仪器膜层的性能检测包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。采用德祸流测厚仪对氧化陶瓷膜的厚度进行检测；微弧氧化采用利用显微硬度仪测量膜层表面显微硬度曰利用环境扫描电子显微镜对微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微观结构进行观察。微弧氧化设备、微弧氧化电源、微弧氧化生产线