现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，真空电镀工厂，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜，真空电镀厂家，解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种，如镀钛镀锆等等。

目前真空管膜层普遍采用铝氮复合膜，整个膜层分内、中、外三层，各有其作用，内层为反射层，主要作用是阻止管中热水的热量向外辐射;中层为吸收层，主要作用是吸收光能，真空电镀，并转化成热能;外层为减反层，主要作用是减少阳光的反射，增加阳光的吸收率。

真空镀膜和光学镀膜区别：

1、真空镀膜：一般TiN，CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;

2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。

****早的是光控测试，现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。

镀件上应规划有满足的装挂方位，与挂具的接触面应比金属件大2～3倍。

塑件的规划要使制件在沉陷时易于脱模，不然强行脱模时会拉伤或镀件外表，或形成塑件内应力而影响镀层结合力。

当需求滚花时，滚花方向应与脱模方向共同且成直线式．滚花条纹与条纹的距离应尽量大一些。

塑件尽量不要用金属镶嵌件，不然在镀前处理时嵌件易被腐蚀。

塑件外表应确保有必定的外表粗糙度。