如何通过*显影去实现蚀刻的？

喷涂---*---显影---固化---蚀刻

喷的感光油墨，在*时候，用非林片把不用蚀刻的地方遮蔽起来

在*过程中，需要蚀刻的部分就被*了，标牌*显影设计，然后经显影液清洗后露出基材

经过固化后，不用蚀刻部分的油墨会牢牢贴在材料上，保护不被蚀刻

脱油墨

这样显影的时候，标牌*显影服务，在菲林上是黑色的地方，标牌*显影工厂，用碱水能洗下去，白色被紫外线晒过的就不容易洗掉，这样图就出来了，油墨是*腐蚀感光油墨，万江标牌*显影，因此他具有*腐蚀性能。标牌*显影

*显影光刻工艺是一种用来去掉晶圆表面层上所规定的特定区域的基本操作

分辨率-resolution 特征图形尺寸-feature size 图像尺寸-image size 定位图形-Alignme*r Registration 聚合-polymerization *刻蚀的-etch resista*r Resist or Photoresist 亮场掩膜版-clear field mask 光溶解-photosolubilization；

负胶 亮场或正胶 暗场形成空穴； 负胶 暗场或正胶 亮场形成凸起标牌*显影

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准*、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。光刻工艺是半导体制造中为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。标牌*显影


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