*显影的概念：

*工艺是怎样？

将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，亮面*显影工厂，掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触，通过*技术，使图形转印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。技术关键点：低温平行光源，波长根据油墨特性进行设备，目前光源是一大难点问题。

显影工艺是怎样？

前工站加工的玻璃进入显影设备，亮面*显影服务，对需要去除的油墨进行化学反应，进行剥离，清溪亮面*显影，然后进行表面清洗，亮面*显影加工，形成*的油墨3D盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。

工艺工序

清洗——中和——三连水洗——阳****氧化——水洗——中和——二连水洗——染色——二连水洗——封孔——二连纯水洗——干燥——下挂全检

*显影工序：壳件抛光——喷涂感光油墨——*显影——去除非保护区油墨——喷砂——*次阳****氧化——镭雕出导电位——二次氧化

总结：*氧化在二次氧化 工艺前添加抛光和*显影工艺。

径向误差补偿方法。在PMD1000设备中，显影液是通过安装在腔体上方的喷嘴以扇形喷洒到掩模版上。当掩模版处于低位置时，喷嘴角度被调整到对准掩模版中心。在掩模版旋转过程中，掩模版中心一直处于新鲜显影液覆盖范围，因此掩模版中心位置的显影程度会高于周边位置，从而造成中心CD比周边大。如果径向误差分析显示这种情况，需要通过调整掩模版显影高度来对周边进行补偿。