真空镀膜的物理过程

PVD（物*相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：

（1）镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

（2）镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。

（3）镀料粒子在基片表面的沉积

薄膜的形成顺序为：具有一定能量的原子被吸附→形成小原子团→临界核→小岛→大岛→岛结合→沟道薄膜→连续薄膜。因此薄膜的形成过程可分为四个阶段；临界核的形成；岛的形成、长大与结合；沟道薄膜的形成和连续膜的形成。

真空镀膜的工艺流程

真空镀膜的工艺流程一般依次为：前处理及化学清洗（表面打磨抛光喷砂，除锈除油去氧化层）→工件在真空中烘烤加热→亚离子辉光清洗→金属离子轰击→镀金属过渡层→镀膜（通入反应气体）→后处理（炉内钝化或出炉后钝化去应力或防止变色，过UV做防指膜处理等）。

1.在前处理的时候酒精或者去啧油含有水分，擦拭后未挥发完毕。

2.亚克力的也会出现类似于水纹的，高安真空镀加工厂家，是溶剂咬合素材后产生的。

3.镀膜后有擦到镀膜层造成的。

4.镀膜后喷中漆擦拭造成的

一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术酔先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，樟树真空镀加工厂家，四五十年代的时候开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，真空镀加工厂家，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于物*相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中

钛主要用于不锈钢装饰，而五金真空电镀钛则是其中的一种表面处理工艺，主要借用惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸气离子化，离子经电场加速而沉积带负电荷的不锈钢板上，湘潭真空镀加工厂家，使之形成色泽丰富，外观艳丽的金属膜层。

通过五金真空电镀钛膜层，可以提高所电镀的物件表面*性，如眼镜架、钻头、丝锥或者小五金件等。可以很好防止物件表面氧化以及锈蚀，不过大部分都是用于装饰性的，颜色金黄，好看，电镀看起来也相对美观。

五金真空电镀钛的特性和不锈钢电镀差不多，能够在潮湿的环境下持久保色，同样具有*腐蚀性以及扛氧化性能，清洁也简单，耐久性方面可通过表面抛光的方式常年维持，经济适用性好。