电子束蒸发镀膜机结构特点

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束镀膜仪

结构特点：

1、卷饶系统采用*支流或交流变频调速，具有运行平稳、速度高、对原卷材不划伤、不折皱，收卷端面征集等特点；

2、张力控制采用进口数字张力控制系统，具有张力、线速度恒定，动作快速的特点；

3、各组送丝由微机电机*控制，可总调或单独调速，并有速度显示；

4、真空系统配置精良，抽气速度快，采用PLC控制；

5、配备大功率电源，镀膜*，膜层均匀性好。

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真空蒸发的物理过程

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，电子束镀膜仪，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，电子束镀膜仪生产商，硬质涂层设备等。

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真空蒸发的物理过程

1.采用各种形式的热能转换方式 采用各种形式的热能转换方式， 1.采用各种形式的热能转换方式，使镀膜材料粒子蒸 发或升华，电子束镀膜仪价格，成为具有一定能量的气态粒子(原子， 发或升华，成为具有一定能量的气态粒子(原子， 分子，原子团， eV)； 分子，原子团，0 .1 ～ 0.3 eV)； 气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到 2.气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到 气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式 基体； 基体； 3.粒子淀积在基体表面上并凝聚成薄膜； 3.粒子淀积在基体表面上并凝聚成薄膜； 粒子淀积在基体表面上并凝聚成薄膜 4.组成薄膜的原子重新排列或化学键合发生变化 组成薄膜的原子重新排列或化学键合发生变化。 4.组成薄膜的原子重新排列或化学键合发生变化。 影响真空镀膜质量和厚度的因素主要有蒸发源的温 度、蒸发源的形状、基片的位置、真空度等。 蒸发源的形状、基片的位置、真空度等。

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电阻蒸发镀膜机镀膜出现炸丝和黑点是怎么回事？

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电阻蒸发镀膜机的镀膜过程三部分:预热—预熔—镀膜;时间要把握好，蒸发时间应该5秒钟搞定。预热7S(时间短，电流小)，预熔8S(电流稍大点，时间长，镀膜5S(时间短)总时间不能超过20S。产生上述情况的原因主要是因为镀膜材料熔太高，电子束镀膜仪生产，蒸发源设置的时间过短。具体的解决措施就要加大预熔电流，时间稍微长一点，如果镀制发黄稍微减少蒸发时间，建议*清洁镀制工件，缩短暴露在空气中的时间，调整蒸发速度。

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