机器运行时的注意事项

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控溅射台

机器运行时的注意事项

1、保持机器内舱各部位的清洁；

2、关注真空度指标；

3、检查并记录抽真空的时间，如有延长，立刻检查造成的原因；

4、记录溅射功率和时间（一般溅射机的银靶设定功率为0.6千瓦，金靶的设定功率为0.75千瓦，铬的行走速率为9000pps），如有异常，立刻检查造成的原因；

5、根据镀出石英振子的散差，调整遮挡板的各部尺寸；

6、溅镀后的石英振子要用3M胶带检查其牢固度；

7、测试并记录镀好的石英振子主要指标，如：频率、电阻、DLD等；

8、将不良品挑出：电****错位、划伤、脏污、掉银等（工位上要有不良品示意图）。

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溅射原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控溅射台

溅射原理

1.1 溅射定义

就像往平静的湖水里投入石子会溅起水花一样，用高速离子轰击固体表面使固体中近表面的原子（或分子）从固体表面逸出，这种现象称为溅射现象。

1.2 溅射的基本原理

溅射是指具有足够高能量的粒子轰击固体表面使其中的原子发射出来。早期人们认为这一现象源于靶材的局部加热。但是不久人们发现溅射与蒸发有本质区别，并逐渐认识到溅射是轰击粒子与靶粒子之间动量传递的结果。

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真空电镀设备膜厚的不均匀问题

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射台公司，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，磁控溅射台，装饰镀膜机，磁控溅射台出售，硬质涂层设备等。

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真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，磁控溅射台报价，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响小化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供*的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所****，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。

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