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用普通真空镀膜只能镀直射表面,高反射反光杯注塑,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。
有机镀膜与无机镀膜的根本区别,目前市场上被称作玻璃系镀膜或石英结晶镀膜的产品几乎都是以含j基的硅氧烷树脂(*siloxane)为主要成分的镀膜,镀膜硬化后(有些镀膜甚至无法达到完全硬化),成份中含有大量j基团(CH3),实质为有机硅树脂。这种镀膜剂在使用中,j基团会被紫外线分解,附着在上面的硅元素也随之脱落。这类镀膜剂所标称的耐久性也仅相当于树脂涂层的耐久性,根本无法与不会学化的纯无机糖瞄相捏并论。
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这保证镀膜时反应气体的纯度,从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3。