铝合金对于工艺参数的影响。“硬质阳****氧化与铝合金材料的关系”中，已经叙述铝合金*号对于硬质阳****氧化设备的氧化膜的性能影响，这里进一步简单说明不同铝合金对于阳****氧化的工艺参数的影响。不同铝合金的外加阳****氧化电压、成膜率和阳****氧化膜的显微硬度，其中纯铝板（即2S）的成膜效率和显微硬度。由于铝合*号是旧牌号，为读者方便起见，表铝合*号的成分。

硬质氧化设备

深圳市日欣工业设备硬质阳****氧化设备技术介绍：氧化膜具有良好的*性、耐侵蚀、耐腐蚀性，微弧氧化设备，根据应用要求不同，膜层厚度可在0.001-0.115英寸（25-125微米）之间或以上，而传统工艺的膜层厚度一般为0.0001-0.0010英寸（2.5-25微米）。对重量轻且有很高的*、耐腐蚀、绝缘的产品需求不断增长，阳****氧化设备，使得该种表面处理工艺受到市场欢迎。硬质氧化设备氧化膜也被用于充当特定材料的连接件，深圳氧化设备，从而减少摩擦系数或形成良好的释放性能。在绝大多数铝合金材料上都可获得超厚紧密的膜层。但是对于合金材料的选择和工艺温度都应仔细考虑。 现已发展出多种硬质阳****氧化工艺是用于各种不同应用。低压硬质阳****氧化工艺就是使用多功能电源系统在交流电流上叠加直流电流。此种工艺科在较低的电压下（12-18V）形成高中质量的硬质氧化膜。此外，含铜量很高的合金例如2011可在较短时间内进行阳****氧化而不出现“烧灼”现象，经过T6特别淬火处理的6061合金的氧化膜厚度可达6-7密耳，而直流高压工艺在此类合金上形成的膜层厚度不超过2.5-3密耳。含铜量更高的2024合金在低压工艺中也可形成****厚达6密耳的氧化膜。

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