微弧氧化设备的微弧氧化工艺微弧氧化工艺

微弧氧化的工艺参数首先应该是施加在铝合金样品上的外加电压，一般说来****终电压决定微弧氧化膜的厚度。****终电压使外加电压不断升高达到的，一般在工艺操作过程中需要进行逐步调节升高，不能直接加至****终电压，否则因为微弧氧化膜的生长速度过快，非标微弧氧化设备，可能出现局部麻坑，甚至发生试样表面的局部烧蚀。微弧氧化的开始起弧电压使与溶液成分、金属类型和工艺等因素有关的。随着外加电压的不断升高，微弧氧化膜的厚度也不断增加，****终其厚度达到外加****终电压所决定的厚度。在某些工艺，****终电压可以达到450~600V，电流密度平均值大约为10A/dm2。

微弧氧化设备中微弧氧化膜的主要性能

微弧氧化膜由于经受高温高压的物理化学作用，南京微弧氧化设备，发生了相和结构的变化，由原来的无定形结构的Al2O3过渡到致密的a-Al2O3的结晶相，因此硬度大大增加，从而****了它的*性能。此外由于微弧氧化膜的孔隙率低、致密度高，因而具有很高的耐腐蚀性能以及较高的电绝缘性能和*高温冲击特点