洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的*度感。随着空气洁净度要求的****，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻*工艺中，临沂无尘车间，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，莒南无尘车间，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，无尘车间，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，泰安无尘车间，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产****jia湿度范围为35-45%。

生物洁净室尤其是生物安全实验室的排风一般含有活性的**的病菌等微生物。淮北净化工程。因此这类排风须经过过滤灭菌后再排放。如手术室的排风须经过中效过滤方能排到室外；P3实验室的排风须经过高xiao过滤器过滤后方能排到室外；P4实验室的排风须经过两级高xiao过滤器过滤后才能排到室外。净化工程。考虑安全****hao采用袋进袋出的高xiao过滤器装置。