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在芯片生产过程中，有一道重要的工序叫做化学机械抛光（英语：Chemical-Mechanical Polishing），又称化学机械平坦化（英语：Chemical-Mechanical Planarization，平面靶材报价，缩写 CMP），而当中要用到一种化学添加剂，也就是研磨液。

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对于ITO靶材，平面靶材生产厂家，我国一直处于技术弱势地位，国际****ITO靶材由JX日矿日石金属、日本三井矿业、日本东曹、韩国三星、德国及美国的少数几家公司所垄断。其中又以日本日矿和三井为****，其两家几乎占据了****TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分的触摸屏面板市场，每家年供应量据称达到600吨以上。

近期，在广西柳州举办的业界****镀膜工艺研讨会上，与会*一致认为，国内各厂商在靶材的研发过程中出现各种问题是必然的，也不可否认国内在这方面的技术远远落后于日本和韩国。目前，国内ITO溅射靶材主要应用于中低端产品商，而****ITO靶材产品则从日韩进口。本土ITO靶材厂商约占*30%的份额，国内大部分的ITO靶材市场则由日韩瓜分。