这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃。去磷硅玻璃的设备一般由本体、清洗槽、伺服驱动系统、机械臂、电气控制系统和自动配酸系统等部分组成,主要动力源有酸、氮气、压缩空气、纯水,玛沁太阳能组件回收,热排风和废水。氢能够溶解二氧化硅是因与二氧化硅反应生成易挥发的四气体。若氢酸过量,反应生成的四会进
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抛光硅表面的反射率为35%,为了减少表面反射,****电池的转换效率,需要沉积一层氮化硅减反射膜。工业生产中常采用PECVD设备制备减反射膜。PECVD即等离子增强型化学气相沉积。它的技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低
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