苏州优锆纳米材料有限公司

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优锆纳米二氧化铈UG-CE03在抛光粉上的应用

发布时间:2018-11-29170次浏览

通过化学反应与抛光表面Si之间形成Ce-O-Si键,CeO2粒子便把SiO2表面的部分SiO2撕咬下来。进入溶液中,经过分散以后SiO2粒子又从CeO2粒子的表面脱落下来。Ce-O-Si 键的形成与Si-O-Si键的断裂影响着抛光速率。化学解聚作用和机械撕咬作用同时影响着Si-O-Si键的断裂。

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