清洗操作的注意事项:
在清洗机内作业时,打开机器的通风设备,关闭外窗门,以*****气体扩散到清洗间,污染样品,损害操作人员健康; 保持清洗机内的清洁卫生,不摆放除超声设备、烧杯、花篮以外的其他设备。
硅材料表面的颗粒、有机物、金属、吸附分子、微粗糙度、自然氧化层等严重影响器件性能,清洗不佳引起的器件失效已超过集成电路制造中总损失的一半。因此,硅片清洗技术成为硅材料加工和半导体工艺研究的一大热点。
超声清洗:
对不同材料及孔径的MCP应采用频率、声强可调的超声波进行实验,以确定实际工艺参数。对孔径6~12μmMCP的清洗,当媒液为水和乙醇时,可采用空化阈约1/3W/cm2,声强10~20 W/cm2,频率20~120 kHz的超声波进行清洗。