一、产品简介

　　K-SD-0.15真空甩带炉真空速凝炉鳞片炉是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的*设备，具有制备块体金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作,，广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究

　　二、非晶材料制备*真空甩带炉主要技术参数

　　1.样品熔炼量：150g;

　　2.辊轮尺寸：φ300mmx40(带水冷);

　　3.铜棍速度：1-3000r/min;

　　4.真空度：5x10-4Pa;

　　5.熔炼电源功率：25KW;

　　6.熔炼温度：500℃-1700℃，

　　7.熔炼坩埚：氮化硼或石英;

　　8.条带宽度：5-30mm;（可根据需求更换铜棍大小）

　　9.真空腔尺寸：400×400×580mm (L*W*H)

　　10.设备尺寸：1620*960*1780m（L*W*H）

　　三、非晶材料制备*真空甩带炉结构简介

　　SD-0.15真空甩带机由真空室、甩带装置、坩埚自动升降装置、气路系统、机壳和熔炼电源等组成。

　　1、真空室：采用304板组焊而成并做表面处理，炉门上装有大尺寸观察窗，既满足高真空要求，又便于观察实验情况。

　　2、甩带装置：采用伺服电机驱动，无****调速，密封采用磁流体密封装置，铜棍拆卸方便。转动平稳，噪音****低。

　　3、坩埚自动升降系统：采用气动升降，带*装置，可根据不同材料设备不同喷带参数。

　　4、气路系统：由电磁阀、压力罐、手动阀门和管路组成，

　　5、机壳：结合国内外设备外观经验，根据自身设备特点，设计出合理机壳，外表喷塑处理；

　　6、熔炼电源：定制的*熔炼电源，操作简单，结构小巧；

　　四、真空甩带机真空甩带炉真空速凝炉鳞片炉实验用真空甩带炉设备工程条件

　　1、设备总功率：30Kw

　　2、总进线要求：单相，220V，50Hz

　　3、设备总重量：~880Kg

　　4、设备占地面积：3500*1500mm（长*宽）